Ngày 15/9/2015, Ban Quản lý Khu Công nghệ cao TP.HCM (SHTP) và Tổ hợp nghiên cứu phát triển công nghệ xưởng cực tiểu (MINIMAL) đã ký kết biên bản ghi nhớ hợp tác nghiên cứu và cải thiện công nghệ tiên tiến liên quan đến xưởng cực tiểu (Minimal Fab).
TP.HCM hợp tác nghiên cứu và cải thiện công nghệ Xưởng cực tiểu
TPHCM đẩy mạnh phát triển công nghiệp vi mạch
ICDREC thiết kế thành công lõi IP nén ảnh JPEG2000
Đây là công nghệ chế tạo vi mạch mới mà các nhà khoa học và doanh nghiệp Nhật Bản đang phát triển và lần đầu tiên đồng ý hợp tác để hỗ trợ đào tạo và tiến tới chuyển giao công nghệ này đến SHTP. Đây là thành công bước đầu của nhóm nghiên cứu đề tài “Nghiên cứu mô hình Xưởng cực tiểu phù hợp với tình hình phát triển khoa học và công nghệ thế giới hướng tới ứng dụng tại Việt Nam” thuộc Trung tâm R&D-Khu Công nghệ cao TP.HCM thực hiện do UBND TP.HCM đặt hàng trong Chương trình phát triển Công nghiệp vi mạch TP.HCM giai đoạn 2013-2020 và được Sở Khoa học và Công nghệ TP.HCM phê duyệt trong năm 2015.
Theo đó, phía đối tác Nhật Bản đồng ý tiếp nhận đào tạo 2 nghiên cứu viên trong vòng từ 1 đến 2 năm tại Nhật Bản thuộc Trung tâm Nghiên cứu triển khai Khu Công nghệ cao TP.HCM cũng như chuyển giao các công nghệ về Minimal Fab cho SHTP.
Phó chủ tịch UBND TP.HCM Tất Thành Cang cho biết: Đây là một cơ hội rất lớn cho sự phát triển ngành công nghiệp vi mạch của Thành phố qua việc tiếp xúc với công nghệ chế tạo vi mạch bán dẫn mới dựa trên nền tảng công nghệ Minimal Fab mà Chính phủ và các nhà khoa học, tập đoàn vi mạch hàng đầu của Nhật Bản đang đầu tư nghiên cứu. Cũng như triển khai đề án phát triển vi cơ điện tử (MEMS) do UBND TP.HCM giao cho SHTP chủ trì theo quyết định số 1780/QĐ-UBND ngày 17/4/2015 về bổ sung các chương trình, dự án nhánh và một số nội dung của Chương trình Phát triển Công nghiệp vi mạch TP.HCM giai đoạn 2013-2020.
